8 coloj 200 mm Silicia Karburo SiC Oblatoj 4H-N tipo Produktado grado 500um dikeco

8inch 200mm Silicia Karburo SiC Oblatoj 4H-N-tipo Produktada grado 500um dikeco Elstara Bildo

Mallonga priskribo:

Ŝanhaja Xinkehui Tech.Co., Ltd ofertas la plej bonan elekton kaj prezojn por altkvalitaj siliciaj karburaj oblatoj kaj substratoj ĝis 8 coloj de diametro kun N- kaj duon-izolaj tipoj.Malgrandaj kaj grandaj kompanioj pri duonkonduktaĵoj kaj esploraj laboratorioj tutmonde uzas kaj fidas je niaj silikonaj karburaj oblatoj.

Sendu retpoŝton al ni

Produkta Detalo

Produktaj Etikedoj

200mm 8 coloj SiC Substrate Specifo

Grandeco: 8 coloj;

Diametro: 200mm±0.2;

Dikeco: 500um±25;

Surfaca Orientiĝo: 4 al [11-20]±0.5°;

Noĉa orientiĝo: [1-100]±1°；

Noĉo-profundo: 1±0.25mm;

Mikropipo: <1cm2;

Heksaj Platoj: Neniuj Permesitaj;

Rezistemo: 0.015~0.028Ω;

EPD:<8000cm2;

TED: <6000cm2

BPD: <2000cm2

TSD: <1000cm2

SF: areo<1%

TTV≤15um；

Varpo≤40um；

Pafarko≤25um；

Poly areoj: ≤5%;

Scratch: <5 kaj Akumula Longo<1 Wafer Diametro;

Blatoj/Indentoj: Neniu permesas D>0.5mm Larĝo kaj Profundo;

Fendoj: Neniuj;

Makulo: Neniu

Oblata rando: Chamfer;

Surfaca finpoluro: Duobla Flanka Pola, Si Face CMP;

Pakado: Multi-Oblata Kasedo Aŭ Ununura Oblata Ujo;

La nunaj malfacilaĵoj en la preparado de 200mm 4H-SiC-kristaloj ĉefe

1) La preparado de altkvalitaj 200mm 4H-SiC-semaj kristaloj;

2) Grandgranda temperaturo-kampa ne-unuformeco kaj nucleation-proceza kontrolo;

3) La transporta efikeco kaj evoluado de gasaj komponantoj en pligrandigi kristalajn kresksistemojn;

4) Kristala krakado kaj difekto proliferado kaŭzita de grandgranda termika streĉiĝo pliiĝo.

Por venki ĉi tiujn defiojn kaj akiri altkvalitajn 200mm SiC-oblajn solvojn estas proponitaj:

Koncerne 200mm seman kristalan preparadon, taŭga temperatura kampoflua kampo, kaj vastiga aro estis studita kaj desegnita por konsideri kristalan kvaliton kaj vastiĝantan grandecon;Komencante per 150mm SiC se:d-kristalo, efektivigu seman kristalan ripeton por iom post iom vastigi la SiC-kristason ĝis ĝi atingas 200mm;Per multobla kristala kresko kaj procezo, iom post iom optimumigu la kristalan kvaliton en la kristala ekspansiiĝanta areo, kaj plibonigu la kvaliton de 200mm semaj kristaloj.

Koncerne al 200mm konduktiva kristalo kaj substrata preparado, esplorado optimumigis la temperaturkampon kaj fluan kampo-dezajnon por grandgranda kristalkresko, kondukas 200mm-konduktan SiC-kristalkreskon kaj kontrolas dopan unuformecon.Post malglata prilaborado kaj formado de la kristalo, 8-cola elektre kondukta 4H-SiC ingoto kun norma diametro estis akirita.Post tranĉado, muelado, polurado, prilaborado por akiri SiC 200mm oblatojn kun dikeco de 525um aŭ tiel