4H-semi HPSI 2 coloj SiC substratoblato Produktado Dummy Esplora grado

Silicia carbura substrato estas ĉefe dividita en konduktivan kaj duon-izolan tipon, konduktivan silician carburan substraton al n-tipa substrato estas ĉefe uzata por epitaxial GaN-bazita LED kaj aliaj optoelektronikaj aparatoj, SiC-bazitaj potencaj elektronikaj aparatoj, ktp., kaj duon- izola SiC-silicio-karbura substrato estas ĉefe uzata por epitaksia fabrikado de GaN-alt-potencaj radiofrekvencaj aparatoj.Krome altpura duonizolado HPSI kaj SI duonizolado estas malsama, altpura duonizolado portanto koncentriĝo de 3,5 * 1013 ~ 8 * 1015/cm3 gamo, kun alta elektrona movebleco;duon-izolado estas alt-rezista materialoj, resistiveco estas tre alta, ĝenerale uzata por mikroonda aparato substratoj, ne-konduktiva.

Semi-izola Silicia Karbura substrata folio SiC-oblato

SiC kristala strukturo determinas sian fizikan, relative al Si kaj GaAs, SiC havas por la fizikaj propraĵoj;malpermesita bando larĝa estas granda, proksime al 3-oble tiu de Si, por certigi ke la aparato funkcias ĉe altaj temperaturoj sub la longtempa fidindeco;rompo kampo forto estas alta, estas 1O fojojn tiu de Si, por certigi ke la aparato tensio kapablo, plibonigi la aparato tensio valoro;saturiĝo elektrona indico estas granda, estas 2 fojojn tiu de Si, pliigi la ofteco de la aparato kaj potenco denseco;termika kondukteco estas alta, pli ol Si, la termika kondukteco estas alta, la termika kondukteco estas alta, la termika kondukteco estas alta, la termika kondukteco estas alta, pli ol la Si, la termika kondukteco estas alta, la termika kondukteco estas alta.Alta varmokondukteco, pli ol 3 fojojn tiu de Si, pliigante la varmegan disipadkapaciton de la aparato kaj realigante la miniaturigon de la aparato.