LNOI-Oblato (Litio-Niobato sur Izolilo) Telekomunikada Sensado Alta Elektro-Optika
Detala Diagramo
Superrigardo
Interne de la skatolo de la sigelo estas simetriaj kaneloj, kies dimensioj estas strikte unuformaj por subteni la du flankojn de la sigelo. La kristala skatolo estas ĝenerale farita el travidebla plasta PP-materialo, kiu estas rezistema al temperaturo, eluziĝo kaj statika elektro. Malsamaj koloroj de aldonaĵoj estas uzataj por distingi la metalajn procezajn segmentojn en la produktado de duonkonduktaĵoj. Pro la malgranda ŝlosilgrandeco de duonkonduktaĵoj, densaj ŝablonoj kaj tre striktaj postuloj pri partikla grandeco en produktado, la skatolo de la sigelo devas havi garantiitan puran medion por konektiĝi al la reakcia kavaĵo de la mikromedia skatolo de malsamaj produktadmaŝinoj.
Fabrikada Metodologio
La fabrikado de LNOI-oblatoj konsistas el pluraj precizaj paŝoj:
Paŝo 1: Heliumjona ImplantadoHeliumaj jonoj estas enkondukitaj en grocan LN-kristalon uzante jonan enplantaĵon. Ĉi tiuj jonoj loĝas je specifa profundo, formante malfortigitan ebenon, kiu poste faciligos la filmdekroĉiĝon.
Paŝo 2: Baza Substrata FormadoAparta silicia aŭ LN-plato estas oksidigita aŭ tavoligita kun SiO2 uzante PECVD aŭ termikan oksidadon. Ĝia supra surfaco estas planigita por optimuma ligado.
Paŝo 3: Ligado de LN al SubstratoLa jon-enplantita LN-kristalo estas turnita kaj alkroĉita al la baza oblato uzante rektan oblatan ligadon. En esploraj kontekstoj, benzociklobuteno (BCB) povas esti uzata kiel gluaĵo por simpligi ligadon sub malpli striktaj kondiĉoj.
Paŝo 4: Termika Traktado kaj Filma ApartigoKalcinado aktivigas vezikformadon ĉe la enplantita profundo, ebligante apartigon de la maldika filmo (supra LN-tavolo) de la ĉefa tavolo. Mekanika forto estas uzata por kompletigi la deskvamiĝon.
Paŝo 5: Surfaca PoluradoKemia Mekanika Polurado (KMP) estas aplikata por glatigi la supran LN-surfacon, plibonigante optikan kvaliton kaj aparatan rendimenton.
Teknikaj Parametroj
| Materialo | Optika Grado LiNbO3 vafloj (Blanka or Nigra) | |
| Kurio Temperaturo | 1142±0.7℃ | |
| Tranĉado Angulo | X/Y/Z ktp | |
| Diametro/grandeco | 2”/3”/4” ±0.03mm | |
| Tol(±) | <0,20 mm ±0,005 mm | |
| Dikeco | 0,18～0,5mm aŭ pli | |
| Primara Plata | 16mm/22mm/32mm | |
| TTV | <3μm | |
| Arko | -30 | |
| Varpo | <40μm | |
| Orientiĝo Plata | Ĉiuj disponeblaj | |
| Surfaco Tipo | Unuflanke polurita (SSP)/Duflanke polurita (DSP) | |
| Polurita flanko Ra | <0.5nm | |
| S/D | 20/10 | |
| Rando Kriterioj | R=0,2mm C-tipo or Rabotonnazo | |
| Kvalito | Senpaga of fendo (vezikoj kaj enfermaĵoj) | |
| Optika dopita | Mg/Fe/Zn/MgO ktp por optika grado LN oblatoj po petita | |
| Oblato Surfaco Kriterioj | Refrakta indico | No=2,2878/Ne=2,2033 @632nm ondolongo/prisma kuplilo-metodo. |
| Poluado, | Neniu | |
| Partikloj c>0.3μ m | <=30 | |
| Gratado, Ĉizado | Neniu | |
| Difekto | Neniuj randaj fendetoj, gratvundoj, segmarkoj, makuloj | |
| Pakado | Kvanto/Skatolo de vafloj | 25 pecoj po skatolo |
Uzokazoj
Pro sia versatileco kaj efikeco, LNOI estas uzata en multaj industrioj:
Fotoniko:Kompaktaj modulatoroj, multipleksiloj, kaj fotonaj cirkvitoj.
RF/Akustiko:Akusto-optikaj modulatoroj, RF-filtriloj.
Kvantuma Komputado:Nelinearaj frekvencmiksiloj kaj fotonparaj generatoroj.
Defendo kaj Aerospaco:Malalt-perdaj optikaj giroskopoj, frekvenc-ŝoviĝaj aparatoj.
Medicinaj Aparatoj:Optikaj biosensiloj kaj altfrekvencaj signalsondiloj.
Oftaj Demandoj
D: Kial LNOI estas preferata super SOI en optikaj sistemoj?
A:LNOI havas superajn elektro-optikajn koeficientojn kaj pli larĝan travideblecan gamon, ebligante pli altan rendimenton en fotonaj cirkvitoj.
Ĉu CMP estas deviga post disigo?
A:Jes. La eksponita LN-surfaco estas malglata post jon-tranĉado kaj devas esti polurita por plenumi optik-nivelajn specifojn.
D: Kio estas la maksimuma havebla grandeco de obleto?
A:Komercaj LNOI-oblatoj estas ĉefe 3-colaj kaj 4-colaj, kvankam iuj provizantoj evoluigas 6-colajn variaĵojn.
Ĉu la LN-tavolo povas esti reuzata post disigo?
A:La baza kristalo povas esti repolurita kaj reuzata plurajn fojojn, kvankam la kvalito povas degradiĝi post pluraj cikloj.
Ĉu LNOI-blatoj kongruas kun CMOS-prilaborado?
A:Jes, ili estas desegnitaj por konvenciaj procezoj de fabrikado de duonkonduktaĵoj, precipe kiam siliciaj substratoj estas uzataj.
