InSb-plato 2-cola 3-cola nedopita tipo N, orientiĝo 111 100 por infraruĝaj detektiloj
Trajtoj
Dopaj Elektoj:
1. Sendopita:Ĉi tiuj oblato estas liberaj de iuj ajn dopantaj agentoj kaj estas ĉefe uzataj por specialigitaj aplikoj kiel ekzemple epitaksa kresko, kie la oblato agas kiel pura substrato.
2.N-Tipo (Te Dopita):Telura (Te) dopado estas uzata por krei N-tipajn oblatojn, ofertante altan elektronan moveblecon kaj igante ilin taŭgaj por infraruĝaj detektiloj, altrapida elektroniko kaj aliaj aplikoj, kiuj postulas efikan elektronan fluon.
3.P-Tipo (Ge Dopita):Germaniuma (Ge) dopado estas uzata por krei P-tipajn oblatojn, provizante altan truomoviĝeblon kaj ofertante bonegan rendimenton por infraruĝaj sensiloj kaj fotodetektiloj.
Grandecaj Elektoj:
1. La obletoj estas haveblaj en diametroj de 2-cola kaj 3-cola. Tio certigas kongruecon kun diversaj fabrikadaj procezoj kaj aparatoj de duonkonduktaĵoj.
2. La 2-cola oblato havas diametron de 50,8 ± 0,3 mm, dum la 3-cola oblato havas diametron de 76,2 ± 0,3 mm.
Orientiĝo:
1. La obletoj estas haveblaj kun orientiĝoj de 100 kaj 111. La orientiĝo 100 estas ideala por altrapida elektroniko kaj infraruĝaj detektiloj, dum la orientiĝo 111 estas ofte uzata por aparatoj postulantaj specifajn elektrajn aŭ optikajn ecojn.
Surfaca Kvalito:
1. Ĉi tiuj obleoj venas kun poluritaj/gratitaj surfacoj por bonega kvalito, ebligante optimuman funkciadon en aplikoj postulantaj precizajn optikajn aŭ elektrajn karakterizaĵojn.
2. La surfaca preparo certigas malaltan difektodensecon, igante ĉi tiujn oblatojn idealaj por infraruĝaj detektaj aplikoj kie rendimenta konstanteco estas kritika.
Epi-Preta:
1. Ĉi tiuj oblatoj estas epi-pretaj, kio igas ilin taŭgaj por aplikoj implikantaj epitaksian kreskon, kie pliaj tavoloj de materialo estos deponitaj sur la oblaton por fabrikado de progresinta duonkonduktaĵo aŭ optoelektroniko.
Aplikoj
1. Infraruĝaj Detektiloj:InSb-blatoj estas vaste uzataj en la fabrikado de infraruĝaj detektiloj, precipe en mez-ondolongaj infraruĝaj (MWIR) gamoj. Ili estas esencaj por noktvidsistemoj, termikaj bildigoj kaj armeaj aplikoj.
2. Infraruĝaj Bildigaj Sistemoj:La alta sentemeco de InSb-oblatoj ebligas precizan infraruĝan bildigon en diversaj sektoroj, inkluzive de sekureco, gvatado kaj scienca esplorado.
3. Rapida Elektroniko:Pro ilia alta elektrona movebleco, ĉi tiuj oblatoj estas uzataj en progresintaj elektronikaj aparatoj kiel ekzemple altrapidaj transistoroj kaj optoelektronikaj aparatoj.
4. Kvantumaj Putaj Aparatoj:InSb-oblatoj estas idealaj por kvantumputaj aplikoj en laseroj, detektiloj kaj aliaj optoelektronikaj sistemoj.
Produktaj Parametroj
Parametro | 2-cola | 3-cola |
Diametro | 50,8 ± 0,3 mm | 76,2 ± 0,3 mm |
Dikeco | 500±5μm | 650±5μm |
Surfaco | Polurita/Gratita | Polurita/Gratita |
Dopa Tipo | Nedopita, Te-dopita (N), Ge-dopita (P) | Nedopita, Te-dopita (N), Ge-dopita (P) |
Orientiĝo | 100, 111 | 100, 111 |
Pakaĵo | Unuopa | Unuopa |
Epi-Preta | Jes | Jes |
Elektraj Parametroj por Te Dopita (N-Tipo):
- Moviĝeblo2000-5000 cm²/V·s
- Rezistiveco: (1-1000) Ω·cm
- EPD (Difekta Denseco)≤2000 difektoj/cm²
Elektraj Parametroj por Ge Dopita (P-Tipo):
- Moviĝeblo4000-8000 cm²/V·s
- Rezistiveco: (0,5-5) Ω·cm
EPD (Difekta Denseco)≤2000 difektoj/cm²
Oftaj Demandoj
Q1: Kio estas la ideala dopaĵo por infraruĝaj detektaj aplikoj?
A1:Te-dopita (N-tipa)oblatoj estas tipe la ideala elekto por infraruĝdetektaj aplikoj, ĉar ili ofertas altan elektronan moveblecon kaj bonegan rendimenton en mez-ondolongaj infraruĝaj (MWIR) detektiloj kaj bildigaj sistemoj.
Q2: Ĉu mi povas uzi ĉi tiujn oblatojn por altrapidaj elektronikaj aplikoj?
A2: Jes, InSb-blatoj, precipe tiuj kunN-tipa dopadokaj la100 orientiĝo, estas bone taŭgaj por altrapida elektroniko kiel transistoroj, kvantumputaj aparatoj kaj optoelektronikaj komponantoj pro sia alta elektrona movebleco.
Q3: Kiuj estas la diferencoj inter la 100 kaj 111 orientiĝoj por InSb-plaketoj?
A3: La100orientiĝo estas ofte uzata por aparatoj postulantaj altrapidan elektronikan rendimenton, dum la111orientiĝo ofte estas uzata por specifaj aplikoj kiuj postulas malsamajn elektrajn aŭ optikajn karakterizaĵojn, inkluzive de certaj optoelektronikaj aparatoj kaj sensiloj.
Q4: Kio estas la signifo de la Epi-Ready-funkcio por InSb-oblatoj?
A4: LaEpi-Pretatrajto signifas, ke la oblato estis antaŭtraktita por epitaksiaj deponadprocezoj. Ĉi tio estas decida por aplikoj, kiuj postulas la kreskon de pliaj tavoloj de materialo sur la oblato, kiel ekzemple en la produktado de progresintaj duonkonduktaĵaj aŭ optoelektronikaj aparatoj.
Q5: Kiuj estas la tipaj aplikoj de InSb-platetoj en la kampo de infraruĝa teknologio?
A5: InSb-platetoj estas ĉefe uzataj en infraruĝa detekto, termika bildigo, noktvidsistemoj kaj aliaj infraruĝaj sensaj teknologioj. Ilia alta sentemeco kaj malalta bruo igas ilin idealaj pormez-ondolonga infraruĝo (MWIR)detektiloj.
Q6: Kiel la dikeco de la oblato influas ĝian rendimenton?
A6: La dikeco de la silo ludas gravan rolon en ĝia mekanika stabileco kaj elektraj karakterizaĵoj. Pli maldikaj siloj ofte estas uzataj en pli sentemaj aplikoj, kie necesas preciza kontrolo de materialaj ecoj, dum pli dikaj siloj provizas plibonigitan daŭripovon por certaj industriaj aplikoj.
Q7: Kiel mi elektas la taŭgan grandecon de obleto por mia apliko?
A7: La taŭga grandeco de la siliciplato dependas de la specifa aparato aŭ sistemo, kiun oni desegnas. Pli malgrandaj siliciplatoj (2-colaj) ofte estas uzataj por esplorado kaj pli malgrandskalaj aplikoj, dum pli grandaj siliciplatoj (3-colaj) estas tipe uzataj por amasproduktado kaj pli grandaj aparatoj, kiuj postulas pli da materialo.
Konkludo
InSb-oblatoj en2-colakaj3-colagrandecoj, kunnedopita, N-tipa, kajP-tipovariaĵoj, estas tre valoraj en duonkonduktaĵaj kaj optoelektronikaj aplikoj, precipe en infraruĝaj detektaj sistemoj. La100kaj111orientiĝoj provizas flekseblecon por diversaj teknologiaj bezonoj, de altrapida elektroniko ĝis infraruĝaj bildigaj sistemoj. Kun sia escepta elektrona movebleco, malalta bruo kaj preciza surfaca kvalito, ĉi tiuj oblatoj estas idealaj pormez-ondolongaj infraruĝaj detektilojkaj aliaj alt-efikecaj aplikoj.
Detala Diagramo



