Altpurecaj fanditaj kvarcaj obletoj por duonkonduktaĵoj, fotonikaj optikaj aplikoj 2″4″6″8″12″
Detala Diagramo
Superrigardo de Kvarca Vitro
Kvarcaj obleoj formas la spinon de sennombraj modernaj aparatoj, kiuj pelas la hodiaŭan ciferecan mondon. De la navigado en via inteligenta telefono ĝis la spino de 5G bazstacioj, kvarco kviete liveras la stabilecon, purecon kaj precizecon necesajn en alt-efikeca elektroniko kaj fotoniko. Ĉu subtenante flekseblajn cirkvitojn, ebligante MEMS-sensilojn, aŭ formante la bazon por kvantuma komputado, la unikaj karakterizaĵoj de kvarco igas ĝin nemalhavebla tra industrioj.
"Fandita Silikoksido" aŭ "Fandita Kvarco", kiu estas la amorfa fazo de kvarco (SiO2). Kompare kun borosilikata vitro, fandita silikoksido ne havas aldonaĵojn; tial ĝi ekzistas en sia pura formo, SiO2. Fandita silikoksido havas pli altan transdonon en la infraruĝa kaj ultraviola spektro kompare kun normala vitro. Fandita silikoksido estas produktita per fandado kaj resolidigo de ultrapura SiO2. Sinteza fandita silikoksido, aliflanke, estas farita el silicioriĉaj kemiaj antaŭuloj kiel SiCl4, kiuj estas gasigitaj kaj poste oksidigitaj en H2 + O2 atmosfero. La SiO2-polvo formita en ĉi tiu kazo estas fandita al silikoksido sur substrato. La fanditaj silikoksidaj blokoj estas tranĉitaj en oblatojn, post kio la oblatoj estas fine poluritaj.
Ŝlosilaj Trajtoj kaj Avantaĝoj de Kvarca Vitra Oblato
-
Ultra-Alta Pureco (≥99.99% SiO2)
Ideala por ultrapuraj semikonduktaĵoj kaj fotonikaj procezoj, kie materiala poluado devas esti minimumigita. -
Larĝa Termika Funkciiga Gamo
Konservas strukturan integrecon de kriogenaj temperaturoj ĝis pli ol 1100 °C sen misformiĝo aŭ degenero. -
Elstara UV kaj IR-Transdono
Liveras bonegan optikan klarecon de profunda ultraviola (DUV) ĝis preskaŭ-infraruĝa (NIR), subtenante precizajn optikajn aplikojn. -
Malalta Termika Ekspansia Koeficiento
Plibonigas dimensian stabilecon sub temperaturfluktuoj, reduktante streson kaj plibonigante procezan fidindecon. -
Supera Kemia Rezisto
Inerta al plej multaj acidoj, alkaloj kaj solviloj — igante ĝin bone taŭga por kemie agresemaj medioj. -
Fleksebleco de Surfaca Finpoluro
Havebla kun ultra-glataj, unu-flankaj aŭ du-flankaj poluritaj finpoluroj, kongruaj kun fotoniko kaj MEMS-postuloj.
Fabrikada Procezo de Kvarca Vitra Oblato
Fanditaj kvarcaj oblatoj estas produktitaj per serio de kontrolitaj kaj precizaj paŝoj:
-
Selektado de Krudmaterialoj
Selektado de altpurecaj naturaj kvarcoj aŭ sintezaj fontoj de SiO₂. -
Fandado kaj Fuzio
Kvarco estas fandita je ~2000 °C en elektraj fornoj sub kontrolita atmosfero por forigi enfermaĵojn kaj vezikojn. -
Bloka Formado
La fandita silico estas malvarmigita en solidajn blokojn aŭ orbrikojn. -
Tranĉado de vafloj
Precizaj diamantaj aŭ dratsegiloj estas uzataj por tranĉi la orbrikojn en oblatajn blankaĵojn. -
Lapado kaj Polurado
Ambaŭ surfacoj estas platigitaj kaj poluritaj por plenumi precizajn optikajn, dikecajn kaj krudecajn specifojn. -
Purigado kaj Inspektado
Oblatetoj estas purigitaj en puraj ĉambroj laŭ ISO-klaso 100/1000 kaj submetitaj al rigora inspektado por difektoj kaj dimensia konformeco.
Ecoj de kvarca vitroplato
| specifo | unuo | 4" | 6" | 8" | 10" | 12" |
|---|---|---|---|---|---|---|
| Diametro / grandeco (aŭ kvadrato) | mm | 100 | 150 | 200 | 250 | 300 |
| Toleremo (±) | mm | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
| Dikeco | mm | 0.10 aŭ pli | 0.30 aŭ pli | 0.40 aŭ pli | 0.50 aŭ pli | 0.50 aŭ pli |
| Primara referenca apartamento | mm | 32.5 | 57.5 | Duon-noĉa | Duon-noĉa | Duon-noĉa |
| LTV (5mm×5mm) | μm | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 |
| TTV | μm | < 2 | < 3 | < 3 | < 5 | < 5 |
| Arko | μm | ±20 | ±30 | ±40 | ±40 | ±40 |
| Varpo | μm | ≤ 30 | ≤ 40 | ≤ 50 | ≤ 50 | ≤ 50 |
| PLTV (5mm×5mm) < 0.4μm | % | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% |
| Randa Rondigo | mm | Konforma al SEMI M1.2 Normo / vidu IEC62276 | ||||
| Surfaca Tipo | Unuflanke polurita / Duflanke polurita | |||||
| Polurita flanko Ra | nm | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 |
| Kriterioj de la Malantaŭa Flanko | μm | ĝenerala 0.2-0.7 aŭ personigita | ||||
Kvarco kontraŭ aliaj travideblaj materialoj
| Posedaĵo | Kvarca vitro | Borosilikata Vitro | Safiro | Norma Vitro |
|---|---|---|---|---|
| Maksimuma Funkciiga Temperaturo | ~1100°C | ~500°C | ~2000°C | ~200°C |
| UV-Transdono | Elstara (JGS1) | Malriĉa | Bona | Tre malbona |
| Kemia Rezisto | Bonega | Modera | Bonega | Malriĉa |
| Pureco | Ekstreme alta | Malalta ĝis modera | Alta | Malalta |
| Termika Ekspansio | Tre malalta | Modera | Malalta | Alta |
| Kosto | Modera ĝis alta | Malalta | Alta | Tre malalta |
Oftaj Demandoj pri Kvarca Vitra Oblato
Q1: Kio estas la diferenco inter fandita kvarco kaj fandita silikoksido?
Kvankam ambaŭ estas amorfaj formoj de SiO₂, fandita kvarco tipe originas de naturaj kvarcfontoj, dum fandita silikoksido estas sinteze produktita. Funkcie, ili ofertas similan rendimenton, sed fandita silikoksido povas havi iomete pli altan purecon kaj homogenecon.
Q2: Ĉu fanditaj kvarcaj oblatoj povas esti uzataj en alt-vakuaj medioj?
Jes. Pro iliaj malaltaj gas-elĵetaj ecoj kaj alta termika rezisto, fanditaj kvarcaj oblatoj estas bonegaj por vakuaj sistemoj kaj aerspacaj aplikoj.
Q3: Ĉu ĉi tiuj obleoj taŭgas por profundaj UV-laseraj aplikoj?
Absolute. Fandita kvarco havas altan transmitancon ĝis ~185 nm, igante ĝin ideala por DUV-optiko, litografiaj maskoj kaj ekscimeraj lasersistemoj.
Q4: Ĉu vi subtenas fabrikadon de laŭmendaj oblatoj?
Jes. Ni ofertas plenan personigon inkluzive de diametro, dikeco, surfaca kvalito, ebenaĵoj/noĉoj kaj lasera strukturizado, bazita sur viaj specifaj aplikaĵaj postuloj.
Pri Ni
XKH specialiĝas pri altteknologia disvolviĝo, produktado kaj vendado de speciala optika vitro kaj novaj kristalaj materialoj. Niaj produktoj servas optikan elektronikon, konsumelektronikon kaj la militistaron. Ni ofertas safirajn optikajn komponantojn, kovrilojn por poŝtelefonaj lensoj, ceramikaĵojn, LT, silician karbidan SIC, kvarcon kaj duonkonduktaĵajn kristalajn oblatojn. Kun sperta sperto kaj pintnivela ekipaĵo, ni elstaras en nenorma produkto-prilaborado, celante esti gvida altteknologia entrepreno pri optoelektronikaj materialoj.
