50,8mm/100mm AlN-ŝablono sur NPSS/FSS AlN-ŝablono sur safiro
AlN-sur-safiro
AlN-sur-safiro povas esti uzata por fari diversajn fotoelektrajn aparatojn, kiel ekzemple:
1. LED-ĉipoj: LED-ĉipoj kutime estas faritaj el aluminio-nitridaj filmoj kaj aliaj materialoj. La efikeco kaj stabileco de LED-oj povas esti plibonigitaj per uzado de AlN-sur-safiraj oblatoj kiel substrato de LED-ĉipoj.
2. Laseroj: AlN-sur-safiraj oblatoj ankaŭ povas esti uzataj kiel substratoj por laseroj, kiuj estas ofte uzataj en medicina, komunikado kaj materialprilaborado.
3. Sunĉeloj: La fabrikado de sunĉeloj postulas la uzon de materialoj kiel ekzemple aluminio-nitrido. AlN-sur-safiro kiel substrato povas plibonigi la efikecon kaj vivdaŭron de sunĉeloj.
4. Aliaj optoelektronikaj aparatoj: AlN-sur-safiraj oblatoj ankaŭ povas esti uzataj por fabriki fotodetektilojn, optoelektronikaj aparatojn kaj aliajn optoelektronikaj aparatojn.
Konklude, AlN-sur-safiraj oblatoj estas vaste uzataj en la opto-elektra kampo pro sia alta varmokondukteco, alta kemia stabileco, malalta perdo kaj bonegaj optikaj ecoj.
50.8mm/100mm AlN-ŝablono sur NPSS/FSS
Ero | Rimarkoj | |||
Priskribo | AlN-on-NPSS-ŝablono | AlN-on-FSS-ŝablono | ||
Diametro de oblato | 50,8mm, 100mm | |||
Substrato | c-ebena NPSS | c-ebena Planara Safiro (FSS) | ||
Substrata Dikeco | 50.8mm, 100mmc-ebeno Planara Safiro (FSS) 100mm: 650 um | |||
Dikeco de AIN-epitevolo | 3~4 µm (celo: 3.3 µm) | |||
Konduktiveco | Izolado | |||
Surfaco | Kiel kreskigita | |||
RMS<1nm | RMS<2nm | |||
Malantaŭa flanko | Muelita | |||
FWHM(002)XRC | < 150 arksekundoj | < 150 arksekundoj | ||
FWHM(102)XRC | < 300 arksekundoj | < 300 arksekundoj | ||
Randa Ekskludo | < 2mm | < 3mm | ||
Primara plata orientiĝo | ebeno+0.1° | |||
Primara plata longo | 50,8 mm: 16 +/-1 mm 100 mm: 30 +/-1 mm | |||
Pakaĵo | Pakita en ŝipskatolo aŭ unuopa oblata ujo |
Detala Diagramo

